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因而,电极和布线用的铝合金( Al-Si, Al-Si-Cu )等都是利用溅射法形成的。最常用的溅射法在平行平板电极间接上高频( 13.56MHz )电源 回收整张蓝膜片NANN,使氩气(压力为1Pa )离子化,在靶材溅射出来的原子淀积到放到另一侧电极上的基片上。为提高成膜速度, 通常利用磁场来增加离子的密度, 这种装置称为磁控溅射装置( magnetron sputter apparatus ),以高电压将通入惰性氩体游离,再藉由阴极电场加速吸引带正电的4004的50mm晶圆和Core 2 Duo的300mm晶圆离子,撞击在阴极处的靶材,将欲镀物打出后沉积在基板上。


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