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本公司长期需要各大厂家晶圆东芝.现代.三星.镁光蓝膜晶圆。

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MOS电路制造中,器件隔离工序中防止寄生沟道用的沟道截断 K9G4G08UOA晶圆回收,调整阀值电压用的沟道掺杂, CMOS的阱形成及源漏区的形成,要采用离子注入法来掺杂。


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