L74A晶圆回收,磅礴电子,晶圆回收

本公司长期需要各大厂家晶圆东芝.现代.三星.镁光蓝膜晶圆。

大量高价收购.EHL9、FFF1、EEU3、EGW1、HTX4、HTX5、K9GAG08UOE、

L84、EGZ9、FGC4、FGC2等系列晶圆。

由热氧化法生成SiO2 缓冲层 EHL9晶圆回收，用来减小后续中Si3N4对晶圆的应力氧化技术：干法氧化Si(固)+O2 à SiO2(固)和湿法氧化Si(固)+2H2O à SiO2(固)+2H2。

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SiO2和Si界面能级密度和固定电荷密度可由MOS二极管的电容特性求得。(100)面的Si的界面能级密度最低 GVG5晶圆回收，约为10E+10-- 10E+11/cm ?2.eV-1 数量级。(100)面时，氧化膜中固定电荷较多，固定电荷密度的大小成为左右阈值的主要因素。

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