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在淀积的同时导入PH3 气体,晶圆,就形成磷硅玻璃( PSG: phosphor silicate glass)再导入B2H6气体就形成BPSG(borro ? phosphor silicate glass)膜。利用氨和SiH4 或Si2H6反应面生成的,8寸晶圆价格,作为层间绝缘的SiO2薄膜是用SiH4和O2在400--4500oC的温度下形成SiH4+O2-SiO2+2H2


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HYF33DS系列、renesas 瑞萨系列、Spansion 系列、NBVN 晶圆/晶元。大量高价回收【深圳庞博电子有限公司】膜生成原理,例如由挥发性金属卤化物(MX)及金属有机化合物(MR)等在高温中气相化学反应(热分解,氢还原、氧化、替换反应等)在基板上形成氮化物、氧化物、碳化物、硅化物、硼化物、高熔点金属金属、半导体等薄膜方法。



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