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本公司长期需要各大厂家晶圆东芝.现代.三星.镁光蓝膜晶圆。

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对其他的透明薄膜 晶圆回收,如知道其折射率,也可用公式计算出(dSiO2)/(dox)=(nox)/(nSiO2)。SiO2膜很薄时 L85晶圆回收,看不到干涉色,但可利用Si的疏水性和SiO2的亲水性来判断SiO2膜是否存在。也可用干涉膜计或椭圆仪等测出。


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CVD 法有外延生长法、HCVD , PECVD 等。PVD 有溅射法和真空蒸发法。一般而言, PVD 温度低,没有毒气问题; CVD 温度高 EEU3晶圆回收,需达到1000 oC 以上将气体解离,来产生化学作用。PVD 沉积到材料表面的附着力较CVD 差一些 EHL9晶圆回收, PVD 适用于在光电产业,而半导体制程中的金属导电膜大多使用PVD 来沉积,而其他绝缘膜则大多数采用要求较严谨的CVD 技术。



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